真空鍍膜設備有哪些基本技術要求呢？

1、設備中的真空管道、靜態密封零部件（法蘭、密封圈等）的結構形式，應符合GB/T6070的規定。

2、在低真空和高真空管道上及真空鍍膜室上應安裝真空測量規管，分別測量各部位的真空度。當發現電場對測量造成干擾時，應在測量口處安裝電場屏蔽裝置。

3、如果設備使用的主泵為擴散泵時，應在泵的進氣口一側裝設有油蒸捕集阱

4、設備的鍍膜室應設有觀察窗，應設有擋板裝置。觀察窗應能觀察到沉積源的工作情況以及其他關鍵部位。

5、離子鍍沉積源的設計應盡可能提高鍍膜過程中的離化率，提高鍍膜材料的利用率，合理匹配沉積源的功率，合理布置沉積源在真空室體的位置。

6、合理布置加熱裝置，一般加熱器結構布局應使被鍍工件溫升均勻一致。

7、工件架應與真空室體絕緣，工件架的設計應使工件膜層均勻。

8、離子鍍膜設備一般應具有工件負偏壓和離子轟擊電源，離子轟擊電源應具有抑制非正常放電裝置，維持工作穩定。

9、真空室接不同電位的各部分間的絕緣電阻值的大小，均按GB/T11164-1999中的4.4.6

10、其他注意事項

1）環境溫度：10-30oC

2）相對濕度：不大于75%

3）冷卻水進水溫度：不高于25oC

4）冷卻水質：城市自來水或相當質量的水。

5）供電電源：380V三相50Hz或220V單相50Hz(由所用電器需要而定)；電壓波動范圍：342-399V或198-231V；頻率波動范圍：49-51Hz。

6）設備所需的壓縮空氣，液氮，冷水、熱水等的壓力、溫度，消耗量等，均應在產品使用說明書中寫明。

7）設備周圍環境整潔，空氣清潔，不應有引起電器及其他金屬件表面腐蝕或引起金屬間導電的塵?；驓怏w存在。