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簡述真空鍍膜設備的用途

簡述真空鍍膜設備的用途

發(fā)布日期:5/9/2019 10:02:34 AM

隨著節(jié)能減排政策的倡導,人們對低輻射鍍膜玻璃提出更高的要求。普通用于生產(chǎn)鍍膜玻璃的鍍膜段生產(chǎn)的產(chǎn)品已經(jīng)不能滿足人們提出的更高要求。大面積磁控濺射鍍膜生產(chǎn)線包含許多組成部分,其中核心區(qū)域是鍍膜高真空區(qū)的工藝布置,即鍍膜段。


現(xiàn)有技術中存在鍍膜單元安裝復雜,靈活性差,隔離系數(shù)低,真空環(huán)境差、冷卻效率低等問題,真空環(huán)境差、冷卻效果低會嚴重影響制備的膜層質量。


提供一種真空鍍膜系統(tǒng),本系統(tǒng)由真空鍍膜系統(tǒng)和手套箱系統(tǒng)集成而成,可在高真空蒸鍍腔室中完成薄膜蒸鍍,并在手套箱高純惰性氣體氛圍下進行樣品的存放、制備以及蒸鍍后樣品的檢測。蒸發(fā)鍍膜與手套箱組合,實現(xiàn)蒸鍍、封裝、測試等工藝全封閉制作,使整個薄膜生長和器件制備過程高度集成在一個完整的可控環(huán)境氛圍的系統(tǒng)中,消除有機大面積電路制備過程中大氣環(huán)境中不穩(wěn)定因素影響,保障了高性能、大面積有機光電器件和電路的制備。真空鍍膜系統(tǒng)用于解決現(xiàn)有技術中用于生產(chǎn)鍍膜玻璃的鍍膜段安裝復雜,靈活性差,隔離系數(shù)低,真空環(huán)境差、冷卻效率低等問題。


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